产品特点
集成度、可靠性、稳定性好
分析速度快捷,20秒内测完所有通道的元素成分。针对不同的分析材料,通过设置预燃时间及标线,使仪器用短的时间达到优的分析效果;
光室结构设计
光学系统采用充氩恒温光室, 激发时产生的弧焰由透镜直接导入光室,实现光路直通,消除了光路损耗,提高检出限,测定结果准确,重现性及长期稳定性佳;
特殊的光室结构设计,使光室容积更小,充氩速度不到普通光谱仪的一半;
自动光路校准,光学系统自动进行谱线扫描,确保接收的正确性,免除繁琐的波峰扫描工作。
仪器自动识别特定谱线,与原存储线进行对比,确定漂移位置,找出分析线当前的像素位置进行测定;
核心器件
HEPS数字化固态光源,适应各种不同材料 ;
铜火花台底座,提高散热性及坚固性能;
采用钨材料电极,电极使用寿命更长,并设计了电极自吹扫功能,清洁电极更加容易;
开放式的电极架设计,可以调整的样品夹,便于各种形状和尺寸的样品分析;
DSP及ARM处理器,具有高速数据采集及控制功能并自动实时监测光室温度、氩气压力、光源、激发室等模块的运行状况;
固态吸附阱,防止油气对光室的污染,提高长期运行稳定性;
仪器与计算机之间采用以太网连接,抗干扰性能好,外部计算机升级与仪器配置无关,使仪器具有适用性;
合理的氩气气路设计,使样品激发时氩气冲洗时间缩短,为用户节省氩气;
基体范围内通道改变、增加不需费用
工作曲线采用国际标样,预做工作曲线,可根据需要延伸及扩展范围,每条曲线由多达几十块标样激发生成,自动扣除干扰;
技术参数
光学系统 | 光学结构:帕邢-龙格结构的全谱真空型光学系统 光室温度:自动控制恒温:35℃±0.5℃ 波长范围:160-800nm 光栅焦距:300mm 光栅刻线:3600l/mm 光谱线色散率:1.2nm/mm 探测器:多块高性能线阵CCD 平均分辨率:30pm/pixel |
激发台 | 气体:冲氩式 氩气流量:激发时3-5L/min 电极:钨材喷射电极技术 吹扫:点击自吹扫功能 补偿:热变形自补偿设计 分析间隙:样品台分析间隙:4mm |
激发光源 | 类型:HEPS数字化固态光源 频率:100-1000Hz 放电电流:1-80A 特殊技术:放电参数优化设计 预燃:高能预燃技术 |
数据采集系统 | 处理器:ARM处理器,高速数据同步采集处理 接口:基于DM9000A的以太数据传输 |
电源与环境要求 | 输入:220VAC 50Hz |
尺寸及重量 | 主机尺寸:700×660×340mm 重量:约30Kg |